VibroMet2振動拋光機可通過幾乎水平方向的振動，搭配MasterMet2二氧化硅拋光液使用，可去除樣品表面機械化制樣后殘留的細微變形層，從而得到高質量的拋光表面，而不必使用電解拋光制備所必需的危...
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測量時無需標距標記、無需接觸，精度等級達到，這些特性是laserXtens激光引伸計的核心所在
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在寬的光譜范圍從190nm（深紫外）到3，500nm（近紅外）
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SENDIRA紅外光譜橢偏儀振動光譜的特點是傅立葉紅外光譜儀FTIR
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根據(jù)樣品成分選擇不同頻率的探頭，來測試不同衰減系數(shù)的樣品
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型號：SpecimIQ/SpecimFX17/SWIR/SpecimFX50/Fenix高光譜相機的波長范圍涵蓋可見光、近紅外及長波紅外范圍（VNIR、NIR、SWIR、MWIR和LWIR）
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凹坑研磨儀預先切薄以接近電子透明度的快速可靠的機械方法，可顯著減少離子研磨時間和薄度不均現(xiàn)象。
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型號：GVC-2000/GVC-2000P/GVC-2000TD磁控離子濺射儀顆粒更小，更適宜于高倍圖像觀測，適配場發(fā)射/高分辨場發(fā)射電鏡；低壓大電流濺射，效率更高。
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GVC-3000熱蒸發(fā)鍍碳儀高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀7英寸TFT觸摸屏，全數(shù)字顯示；全自動控制，一鍵式操作；4根碳繩交替工作，自動檢測通斷；連續(xù)蒸發(fā)、脈沖蒸發(fā)兩種工作模式。
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GVC-5000T 高真空多功能鍍膜儀鍍金鍍碳一體機(高真空多功能鍍膜儀)雙組件設計、防污擋板設計、 一鍵切換工作模式、鍍膜效率高、顆粒度小、可鍍所有金屬膜和ITO 導電膜。
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ArBlade5000 是日立離子研磨儀的高性能機型。它實現(xiàn)了超高速截面研磨。高效率截面加工功能，使電鏡截面觀察時樣品 加工更簡單。
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產(chǎn)品展示product
產(chǎn)品分類電鏡樣品制備
薄膜、塊體樣品制備
晶體樣品制備
粉末樣品制備
器件樣品制備
樣品處理系統(tǒng)
測試儀表
分析表征設備
測試設備
實驗室通用輔助設備
反應設備
17710506869
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多功能高低溫真空探針臺,電-光-氣接口齊全，應用場景不受限。可實現(xiàn)寬溫度范圍、高真空或氣氛控制。可與各種阻抗分析儀、LCR表、鐵電測試儀、光伏測試儀、半導體參數(shù)測試儀、源表等聯(lián)用，特別適合介電、鐵電、...
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大尺寸臺式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD 安瑞克(ANRIC)技術公司開發(fā)的原子層沉積(ALD)是一種氣相薄膜沉積技術，以其出色的匹配性、均勻性以及亞納米級的厚度控制而著稱。其基本原理基于自限性表面反...
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等離子體增強原子層沉積PEALDAT650P（等離子體增強）/ AT650T（熱型）AT650T可在用戶現(xiàn)場升級為AT650P
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小型臺式 ALD（原子層沉積）工具專為簡單的操作和安裝而設計，而不會犧牲其性能，用于成本效益型研究與開發(fā)。
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AT-200M（熱原子層沉積系統(tǒng)）
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粉末原子層沉積系統(tǒng)ALD
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該款ALD原子層沉積設備特別適用于科研用戶的小型臺式設備。它經(jīng)濟實用、操作簡單、質量穩(wěn)定可靠、售后耗材費用極低、維修便捷、容易操作。ALD專家教授實驗室被廣泛使用。
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設備特點：$n$n脈沖電閃基反應器是集閃蒸焦耳熱系統(tǒng)和快速焦耳熱系統(tǒng)為一體的反應系統(tǒng)包括兩個電源系統(tǒng)(大功率電容系統(tǒng)和恒壓電源系統(tǒng))和電壓、電流、溫度實時測試系統(tǒng)。
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市面上最小的ALD，可放進手套箱，來自美國哈佛的原子層沉積系統(tǒng)$n兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，具有超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃。
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kashiyama NeoDry-15G 真空泵產(chǎn)品特點:$n·適合研究室等領域$n·無負荷運行噪音小于45dB/36G：50dB（A）$n·選配Gas Ballast，...
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